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高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备

于盛旺 安康 李晓静 申艳艳 宁来元 贺志勇 唐宾 唐伟忠

于盛旺, 安康, 李晓静, 申艳艳, 宁来元, 贺志勇, 唐宾, 唐伟忠. 高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备[J]. 红外与激光工程, 2013, 42(4): 971-974.
引用本文: 于盛旺, 安康, 李晓静, 申艳艳, 宁来元, 贺志勇, 唐宾, 唐伟忠. 高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备[J]. 红外与激光工程, 2013, 42(4): 971-974.
Yu Shengwang, An Kang, Li Xiaojing, Shen Yanyan, Ning Laiyuan, He Zhiyong, Tang Bin, Tang Weizhong. Preparation of diamond films as an infrared optical material by high power microwave plasma CVD[J]. Infrared and Laser Engineering, 2013, 42(4): 971-974.
Citation: Yu Shengwang, An Kang, Li Xiaojing, Shen Yanyan, Ning Laiyuan, He Zhiyong, Tang Bin, Tang Weizhong. Preparation of diamond films as an infrared optical material by high power microwave plasma CVD[J]. Infrared and Laser Engineering, 2013, 42(4): 971-974.

高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备

基金项目: 

国家自然科学基金(51071106)

详细信息
    作者简介:

    于盛旺(1974-),男,博士,主要从事薄膜材料及高功率微波等离子化学气相沉积金刚石膜技术与装备方面的研究。Email:bkdysw@yahoo.cn

  • 中图分类号: O484

Preparation of diamond films as an infrared optical material by high power microwave plasma CVD

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出版历程
  • 收稿日期:  2012-08-10
  • 修回日期:  2012-09-13
  • 刊出日期:  2013-04-25

高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备

    作者简介:

    于盛旺(1974-),男,博士,主要从事薄膜材料及高功率微波等离子化学气相沉积金刚石膜技术与装备方面的研究。Email:bkdysw@yahoo.cn

基金项目:

国家自然科学基金(51071106)

  • 中图分类号: O484

摘要: 使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置,以H2-CH4为气源,就高功率条件下CH4浓度对金刚石膜的生长速率和品质的影响规律进行了研究,并在此基础上进行了大面积光学级金刚石膜的沉积。利用扫描电镜、激光拉曼谱仪、傅里叶红外光谱仪对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质、红外透过率等进行了表征。实验结果表明,使用自行设计建造的椭球谐振腔式MPCVD装置在高功率条件下通过提高CH4浓度会使金刚石膜的生长速率增加,但当CH4浓度达到一定比例后,金刚石膜的生长速率将不再继续提高。CH4浓度在0.5%~2%时制备的金刚石膜品质较高;自行设计建造的椭球谐振腔式MPCVD装置能够满足在较高功率下光学级金刚石膜的快速沉积要求。

English Abstract

参考文献 (15)

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