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Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作

董亭亭 付跃刚 陈驰 张磊 马辰昊 赵玄

董亭亭, 付跃刚, 陈驰, 张磊, 马辰昊, 赵玄. Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作[J]. 红外与激光工程, 2016, 45(6): 622002-0622002(6). doi: 10.3788/IRLA201645.0622002
引用本文: 董亭亭, 付跃刚, 陈驰, 张磊, 马辰昊, 赵玄. Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作[J]. 红外与激光工程, 2016, 45(6): 622002-0622002(6). doi: 10.3788/IRLA201645.0622002
Dong Tingting, Fu Yuegang, Chen Chi, Zhang Lei, Ma Chenhao, Zhao Xuan. Design and manufacture of columned antireflective periodic microstructures on the surface of Si substrate[J]. Infrared and Laser Engineering, 2016, 45(6): 622002-0622002(6). doi: 10.3788/IRLA201645.0622002
Citation: Dong Tingting, Fu Yuegang, Chen Chi, Zhang Lei, Ma Chenhao, Zhao Xuan. Design and manufacture of columned antireflective periodic microstructures on the surface of Si substrate[J]. Infrared and Laser Engineering, 2016, 45(6): 622002-0622002(6). doi: 10.3788/IRLA201645.0622002

Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作

doi: 10.3788/IRLA201645.0622002
基金项目: 

国家自然科学基金(61108044);吉林省自然科研基金(20150101038JC)

详细信息
    作者简介:

    董亭亭(1986-),女,博士生,主要从事仿生光学、微纳加工制造方面的研究。Email:dong_tingting_good@126.com

  • 中图分类号: O485;TN305

Design and manufacture of columned antireflective periodic microstructures on the surface of Si substrate

  • 摘要: 应用严格耦合波分析方法(RCWA),在本征硅片衬底表面设计并制作了一种圆柱形抗反射微结构元件。通过MATLAB软件模拟仿真确定其最优参数组合,使反射率设计值为3%。应用二元曝光技术和反应离子刻蚀技术制作了单面和双面的圆柱形微结构,根据结果得到射频功率、气体流量及工作气压对微结构侧壁陡直度及形貌具有很大影响。还分析比较了形状(t为实际柱顶面直径与底面直径之比)与反射率的关系。采用热场发射扫描电子显微镜对该结构进行形貌表征,综合显微成像红外光谱仪对反射率进行测量。实验结果:制作了单面、双面微结构与无结构本征硅片反射率做比较双面圆柱形微结构的抗反射效果最好,反射率达8%左右,基本达到抗反射设计要求。
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出版历程
  • 收稿日期:  2015-10-11
  • 修回日期:  2015-11-23
  • 刊出日期:  2016-06-25

Si衬底表面圆柱形抗反射周期微结构的设计及制作

doi: 10.3788/IRLA201645.0622002
    作者简介:

    董亭亭(1986-),女,博士生,主要从事仿生光学、微纳加工制造方面的研究。Email:dong_tingting_good@126.com

基金项目:

国家自然科学基金(61108044);吉林省自然科研基金(20150101038JC)

  • 中图分类号: O485;TN305

摘要: 应用严格耦合波分析方法(RCWA),在本征硅片衬底表面设计并制作了一种圆柱形抗反射微结构元件。通过MATLAB软件模拟仿真确定其最优参数组合,使反射率设计值为3%。应用二元曝光技术和反应离子刻蚀技术制作了单面和双面的圆柱形微结构,根据结果得到射频功率、气体流量及工作气压对微结构侧壁陡直度及形貌具有很大影响。还分析比较了形状(t为实际柱顶面直径与底面直径之比)与反射率的关系。采用热场发射扫描电子显微镜对该结构进行形貌表征,综合显微成像红外光谱仪对反射率进行测量。实验结果:制作了单面、双面微结构与无结构本征硅片反射率做比较双面圆柱形微结构的抗反射效果最好,反射率达8%左右,基本达到抗反射设计要求。

English Abstract

参考文献 (15)

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