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离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究

姜玉刚 刘小利 刘华松 刘丹丹 王利栓 陈丹 姜承慧 季一勤

姜玉刚, 刘小利, 刘华松, 刘丹丹, 王利栓, 陈丹, 姜承慧, 季一勤. 离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究[J]. 红外与激光工程, 2019, 48(2): 221003-0221003(5). doi: 10.3788/IRLA201948.0221003
引用本文: 姜玉刚, 刘小利, 刘华松, 刘丹丹, 王利栓, 陈丹, 姜承慧, 季一勤. 离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究[J]. 红外与激光工程, 2019, 48(2): 221003-0221003(5). doi: 10.3788/IRLA201948.0221003
Jiang Yugang, Liu Xiaoli, Liu Huasong, Liu Dandan, Wang Lishuan, Chen Dan, Jiang Chenghui, Ji Yiqin. Study on the design and preparing technology of ion beam sputtering wideband absorption thin film[J]. Infrared and Laser Engineering, 2019, 48(2): 221003-0221003(5). doi: 10.3788/IRLA201948.0221003
Citation: Jiang Yugang, Liu Xiaoli, Liu Huasong, Liu Dandan, Wang Lishuan, Chen Dan, Jiang Chenghui, Ji Yiqin. Study on the design and preparing technology of ion beam sputtering wideband absorption thin film[J]. Infrared and Laser Engineering, 2019, 48(2): 221003-0221003(5). doi: 10.3788/IRLA201948.0221003

离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究

doi: 10.3788/IRLA201948.0221003
基金项目: 

国家自然科学基金(61705165,61775167,61235011);天津市自然科学基金(18JCZDJC37900)

详细信息
    作者简介:

    姜玉刚(1985-),男,高级工程师,博士,主要从事于低损耗激光薄膜和固体激光薄膜设计、制备和性能检测技术方面的研究。Email:liuhuasong@hotmail.com

  • 中图分类号: O433.4

Study on the design and preparing technology of ion beam sputtering wideband absorption thin film

  • 摘要: Si薄膜在可见光和近红外波段具有一定的吸收特性,可用于宽带吸收薄膜的制备。采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了不同沉积工艺参数的Si薄膜,基于透、反射光谱和椭偏光谱的全光谱数值拟合法,计算了Si薄膜的光学常数,并研究了氧气、氮气流量对其光学特性的影响。选择Si和Ta2O5作为高折射率材料、SiO2作为低折射率,设计了吸收率为2%和10%的宽带(1 000~1 400 nm)吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了宽带吸收薄膜,对于A=2%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为2.12%、2.15%和2.22%;对于A=10%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为9.71%、8.35%和9.07%。研究结果对于吸收测量仪、光谱测试仪等仪器的定标具有重要的作用。
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出版历程
  • 收稿日期:  2018-09-05
  • 修回日期:  2018-10-15
  • 刊出日期:  2019-02-25

离子束溅射宽带吸收薄膜设计与制备技术研究

doi: 10.3788/IRLA201948.0221003
    作者简介:

    姜玉刚(1985-),男,高级工程师,博士,主要从事于低损耗激光薄膜和固体激光薄膜设计、制备和性能检测技术方面的研究。Email:liuhuasong@hotmail.com

基金项目:

国家自然科学基金(61705165,61775167,61235011);天津市自然科学基金(18JCZDJC37900)

  • 中图分类号: O433.4

摘要: Si薄膜在可见光和近红外波段具有一定的吸收特性,可用于宽带吸收薄膜的制备。采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了不同沉积工艺参数的Si薄膜,基于透、反射光谱和椭偏光谱的全光谱数值拟合法,计算了Si薄膜的光学常数,并研究了氧气、氮气流量对其光学特性的影响。选择Si和Ta2O5作为高折射率材料、SiO2作为低折射率,设计了吸收率为2%和10%的宽带(1 000~1 400 nm)吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了宽带吸收薄膜,对于A=2%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为2.12%、2.15%和2.22%;对于A=10%的宽带吸收光谱,在1 064、1 200、1 319 nm的吸收率分别为9.71%、8.35%和9.07%。研究结果对于吸收测量仪、光谱测试仪等仪器的定标具有重要的作用。

English Abstract

参考文献 (11)

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