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Ge/Si SACM-APD器件分析

王巍 颜琳淑 王川 杜超雨 王婷 王冠宇 袁军 王振

王巍, 颜琳淑, 王川, 杜超雨, 王婷, 王冠宇, 袁军, 王振. Ge/Si SACM-APD器件分析[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(4): 1349-1353.
引用本文: 王巍, 颜琳淑, 王川, 杜超雨, 王婷, 王冠宇, 袁军, 王振. Ge/Si SACM-APD器件分析[J]. 红外与激光工程, 2015, 44(4): 1349-1353.
Wang Wei, Yan Linshu, Wang Chuan, Du Chaoyu, Wang Ting, Wang Guanyu, Yuan Jun, Wang Zhen. Analysis of separate-absorption-charge-multiplication Ge/Si-APD[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(4): 1349-1353.
Citation: Wang Wei, Yan Linshu, Wang Chuan, Du Chaoyu, Wang Ting, Wang Guanyu, Yuan Jun, Wang Zhen. Analysis of separate-absorption-charge-multiplication Ge/Si-APD[J]. Infrared and Laser Engineering, 2015, 44(4): 1349-1353.

Ge/Si SACM-APD器件分析

详细信息
    作者简介:

    王巍(1967-),男,教授,博士,主要从事半导体光电、集成电路设计方面的研究.Email:wangwei@cqupt.edu.cn

  • 中图分类号: TN215

Analysis of separate-absorption-charge-multiplication Ge/Si-APD

  • 摘要: Ge/Si吸收区-电荷区-倍增区分离(SACM)结构的APD作为一种新型光电探测器已成为硅基APD器件研究的重点.对SACM Ge/Si型APD器件的基本结构及其主要特性参数,包括量子效率、响应度、暗电流等进行了理论分析及仿真验证.实验结果表明:在给定的器件参数条件下,所设计的APD器件的雪崩击穿电压为25.7 V,最大内部量子效率为91%,单位增益下响应度峰值为0.55 A/W,在750~1 500 nm范围内具有较高响应度,其峰值波长为1 050 nm;在高偏压以及高光照强度情况下,倍增区发生空间电荷效应从而导致增益降低.
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-08-11
  • 修回日期:  2014-09-15
  • 刊出日期:  2015-04-25

Ge/Si SACM-APD器件分析

    作者简介:

    王巍(1967-),男,教授,博士,主要从事半导体光电、集成电路设计方面的研究.Email:wangwei@cqupt.edu.cn

  • 中图分类号: TN215

摘要: Ge/Si吸收区-电荷区-倍增区分离(SACM)结构的APD作为一种新型光电探测器已成为硅基APD器件研究的重点.对SACM Ge/Si型APD器件的基本结构及其主要特性参数,包括量子效率、响应度、暗电流等进行了理论分析及仿真验证.实验结果表明:在给定的器件参数条件下,所设计的APD器件的雪崩击穿电压为25.7 V,最大内部量子效率为91%,单位增益下响应度峰值为0.55 A/W,在750~1 500 nm范围内具有较高响应度,其峰值波长为1 050 nm;在高偏压以及高光照强度情况下,倍增区发生空间电荷效应从而导致增益降低.

English Abstract

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