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ZnO薄膜在微光像增强器中的潜在应用

王新 孙瑶 李野 端木庆铎

王新, 孙瑶, 李野, 端木庆铎. ZnO薄膜在微光像增强器中的潜在应用[J]. 红外与激光工程, 2014, 43(1): 151-154.
引用本文: 王新, 孙瑶, 李野, 端木庆铎. ZnO薄膜在微光像增强器中的潜在应用[J]. 红外与激光工程, 2014, 43(1): 151-154.
Wang Xin, Sun Yao, Li Ye, Duanmu Qingduo. Potential application of ZnO thin film in the low-light-level image intensifier[J]. Infrared and Laser Engineering, 2014, 43(1): 151-154.
Citation: Wang Xin, Sun Yao, Li Ye, Duanmu Qingduo. Potential application of ZnO thin film in the low-light-level image intensifier[J]. Infrared and Laser Engineering, 2014, 43(1): 151-154.

ZnO薄膜在微光像增强器中的潜在应用

基金项目: 

国家自然科学基金(11004016,61077024);微光重点实验室基金(J20110202,J20110107)

详细信息
    作者简介:

    王新(1978- ),男,副教授,博士生导师,博士,主要从事半导体光电子材料和器件方面的研究。Emai:wangxin971241@yahoo.com.cn

  • 中图分类号: TN389

Potential application of ZnO thin film in the low-light-level image intensifier

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出版历程
  • 收稿日期:  2013-05-07
  • 修回日期:  2013-06-03
  • 刊出日期:  2014-01-25

ZnO薄膜在微光像增强器中的潜在应用

    作者简介:

    王新(1978- ),男,副教授,博士生导师,博士,主要从事半导体光电子材料和器件方面的研究。Emai:wangxin971241@yahoo.com.cn

基金项目:

国家自然科学基金(11004016,61077024);微光重点实验室基金(J20110202,J20110107)

  • 中图分类号: TN389

摘要: ZnO 薄膜是一种新型的宽带隙透明氧化物薄膜材料,具有优良的物理和化学特性。在微光像增强器中具有多方面的潜在应用。通过对ZnO 材料晶格参数等的研究, 发现可以作为制备高质量GaN 紫外光电阴极的缓冲层。通过对ZnO 能带的研究,发现ZnO 本身还可以独立的作为负电子亲和势光电阴极材料,一旦p 型ZnO 制备获得成功,将更有利于形成负电子亲和势光电阴极。此外,采用蒙特卡罗模拟的方法发现ZnO 薄膜比传统的Al2O3 防离子反馈膜对碳等正离子具有更强的阻挡作用,有可能取代Al2O3 薄膜用于制备三代微光器件防离子反馈膜。ZnO 薄膜还具有较高的二次电子发射系数和适合的电阻率,可以用来制备Si 微通道板打拿极。

English Abstract

参考文献 (21)

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